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二硅化铒 Erbium silicide(ErSi2)
产品名称:二硅化铒(ErSi2) 规格:0.8-10um(D50)   形貌:不规则 颜色:黑灰色  特点:良好的导电性 用途:高温抗氧化涂层材料、‌电加热元件、‌集成电极薄膜等领域
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二硅化铒 Erbium silicide(ErSi2)

产品名称:二硅化铒(ErSi2)

规格:0.8-10um(D50)  

形貌:不规则

颜色:黑灰色 

特点:良好的导电性

用途:高温抗氧化涂层材料、‌电加热元件、‌集成电极薄膜等领域

二硅化铒应用领域

中文名: 二硅化铒
英文名: erbium disilicide
分子式: ErSi2
密度: 7.260
分子量: 223.43
CAS号: 12020-28-9
制备工艺:Er、Si、混合物在电炉加热10~12h。
应用领域:
硅化铒(ErSi)作为铒与硅形成的金属间化合物,其用途主要基于铒元素的独特物理化学性质(如光学特性、磁学性能)以及硅化物的结构特点。
1. 光电子与光纤通信
掺铒材料扩展:铒离子(Er³⁺)是光纤通信中掺铒光纤放大器(EDFA)的核心材料,但硅化铒可通过纳米结构或复合材料形式,在硅基光子学中发挥作用,例如:
近红外发光器件:硅化铒可作为硅基发光材料,用于集成光路或光通信芯片。
光电探测器:在特定波长范围内(如1.5 μm通信波段)的光电转换器件中具有潜力。
2. 磁性材料与自旋电子学
磁存储技术:铒的强磁各向异性和硅化物的有序结构可于高密度磁记录介质或自旋电子器件(如磁阻存储器)。
磁制冷材料:某些铒基化合物在低温下展现磁热效应,硅化铒可作为新型磁制冷工质的研究对象。
3. 半导体与微电子
硅基器件集成:类似其他稀土硅化物(如ErSi₂),可用作集成电路中的低电阻接触层或肖特基势垒层,提升器件高频性能。
高温半导体:高熔点和稳定性使其可适用于高温电子器件或功率半导体。
4. 核工业与辐射防护
中子吸收材料:铒的中子俘获截面较大,硅化铒可用于核反应堆控制棒或中子屏蔽组件,但其辐照稳定性需验证。
5. 催化与能源转化
催化反应:铒的催化活性可使硅化铒用于甲烷重整、水分解制氢等反应,但需实验验证其活性位点与稳定性。
热电材料:具备高电导率和低热导率,可用于废热发电装置。
6. 量子技术
量子比特载体:铒离子的特殊能级结构(长寿命相干态)可通过硅化铒与硅基量子器件的集成,用于固态量子计算平台。
7. 高温结构材料
极端环境涂层:硅化铒的高温抗氧化性可用于航空发动机叶片涂层或核聚变装置内壁保护层,需结合增韧材料解决脆性问题。
存储方法:本品应密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜长久暴露于空气中,防受潮发生团聚,影响分散性能和使用效果,另应避免重压,勿与氧化剂接触,按照普通货物运输。

 

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