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氮化铌 Niobium nitride(NbN)
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产品详情
氮化铌 Niobium nitride(NbN)

产品名称:氮化铌(NbN)

规格:0.8-10um(D50)  

形貌:不规则

颜色:黑灰色 

特点:高温超导性、‌高硬度、‌良好的耐磨性和耐腐蚀性、‌优异的光学性能、‌高温稳定性、‌低比重

用途:超导电子学、‌机械加工、‌光电子学、‌热电材料、‌航空航天等领域

品名:氮化铌
CAS:24621-21-4
英文名:NIOBIUM NITRIDE
化学式:NbN
纯度:≥99.5%
晶体:立方
颜色:黑色
相对密度:8. 47
分子量: 106.913
熔点:2300℃;生成热- 237. 8kj/mol
莫氏硬度:8
显微硬度:14. 3GPa
电阻率:200u.cm。其超导转变临界温度为15. 6K。
水溶性:不溶于 溶于和的浓酸溶液中,也溶于热碱或高浓度碱液,并放出氨气.在空气中加热至500~800℃时,生成五氧化二铌同时放出氮。

合成工艺
将粉碎的铌金属送入以铌金属和氮气为原料的氮化炉,并引入氮气或氨气在700至1100°C下反应,直接合成氮化铌。
用途:
1.用作硬质合金添加剂,亦可制取高纯铌。在空气中加热至500~800℃时,生成五氧化二铌同时放出氮。在真空中氮化铌分解生成金属铌。氮化铌和碳化钛、碳化锆、碳化钒、硪化钽等可形成固溶体。
2.氮化铌是一种流行的超导材料,因为其“临界温度”就其“形状”而言相对较高,超导临界温度为17.3K。上临界磁场为43T。临界电流密度Jc,(4.2K,20T)高达2×106A/cm2。热稳定性和化学稳定性高,抗中子辐照,是优良的超导薄膜材料,临界温度是从普通金属到超导体的过渡点,但与大多数超导体一样,在纳米器件上沉积成薄膜时,临界温度较低。将超导材料铌氮化物(二维结晶层)添加到氮化物半导体衬底上,在氮化铝AlN层上直接生长氮化铌NbNx薄膜。当温度低于绝对零度以上约16度时,氮化铌可以成为超导材料。
3.用于制作高度稳定的超导量子仪器器件。
包装储存:本品为充惰气塑料袋包装,密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜暴露空气中,防受潮发生氧化团聚,影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供,分装

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